關(guān)于金相磨拋機(jī)使用過(guò)程中的耗材，以及耗材的種類(lèi)

一、核心耗材分類(lèi)與用途

1. 研磨盤(pán)（Grinding Discs）

• 材質(zhì)與類(lèi)型：

• 金剛石研磨盤(pán)：用于硬質(zhì)材料（如淬火鋼、陶瓷），顆粒度從粗（50μm）到細(xì)（1μm）。

• 碳化硅（SiC）砂紙/磨盤(pán)：通用型，適合中低硬度材料（如鋁合金、銅），成本低但壽命短。

• 氧化鋁（Al?O?）磨盤(pán)：適用于軟金屬或精細(xì)拋光階段。

• 顆粒度選擇：

• 粗磨：120-400目（去除切割損傷層）。

• 精磨：600-1200目（細(xì)化表面）。

• 拋光前過(guò)渡：2000目以上（減少后續(xù)拋光時(shí)間）。

• 推薦品牌：標(biāo)樂(lè)（Buehler）MetaDi金剛石盤(pán)。

2. 拋光布（Polishing Cloths）

• 類(lèi)型與用途：

• 短絨毛布（如標(biāo)樂(lè)TexMet）：適合粗拋光，配合金剛石懸浮液。

• 長(zhǎng)絨毛布（如標(biāo)樂(lè)ChemoMet）：用于終拋光，配合氧化硅或氧化鋁拋光液。

• 合成纖維布（如斯特爾DP-Nap）：抗撕裂，適合高壓力拋光。

• 適配場(chǎng)景：

• 硬質(zhì)材料：選高密度布（如尼龍布）。

• 軟材料：選低彈性布（避免嵌入劃痕）。

3. 研磨/拋光劑（Abrasives & Polishing Suspensions）

• 金剛石懸浮液：

• 粒度范圍：9μm、6μm、3μm、1μm，用于硬材料拋光。

• 推薦：標(biāo)樂(lè)MetaDi懸浮液（水基/油基可選）。

• 氧化鋁拋光液：

• 終拋光用（0.05μm），適合軟金屬（鋁、鎂合金）。

• 硅膠拋光液（SiO?）：

• 用于高精度拋光（如EBSD樣品），粒度低至0.02μm。

4. 砂紙（SiC Paper）

• 用途：手動(dòng)或自動(dòng)研磨的初始階段，快速去除切割痕跡。

• 規(guī)格：80目（粗）→ 1200目（細(xì)），濕磨為主。

• 壽命：?jiǎn)螐埳凹埧商幚?0-20個(gè)樣品（視材料硬度）。

5. 夾具與固定耗材

• 樣品夾具：磁性?shī)A具、多孔夾具（適配不同尺寸）。

• 石蠟/熱熔膠：用于固定微小或異形樣品。

6. 冷卻/潤(rùn)滑劑

• 水基冷卻液：防銹、降溫，通用型。

• 酒精或?qū)Ｓ脻?rùn)滑劑：用于避免軟金屬氧化（如鈦合金）。

二、耗材壽命與成本參考

三、耗材選購(gòu)注意事項(xiàng)

1. 匹配材料硬度：

• 硬材料（如陶瓷）必須用金剛石耗材，軟材料（鋁）避免金剛石（易嵌入）。

2. 兼容設(shè)備型號(hào)：

• 部分品牌設(shè)備（如標(biāo)樂(lè)）需專(zhuān)用耗材，第三方耗材可能影響保修。

3. 經(jīng)濟(jì)性平衡：

• 高價(jià)值耗材（金剛石盤(pán)）建議原廠(chǎng)采購(gòu)，砂紙/拋光布可選第三方（如國(guó)產(chǎn)品牌）。

4. 避免交叉污染：

• 不同粒度砂紙/拋光布需分開(kāi)放置，使用后清潔設(shè)備。

四、推薦品牌與替代方案

五、維護(hù)與存儲(chǔ)技巧

1. 清潔：

• 拋光布使用后立即用清水沖洗，避免拋光液干結(jié)。

• 研磨盤(pán)定期用軟刷清理碎屑。

2. 存儲(chǔ)：

• 砂紙、拋光布需防潮避光，金剛石耗材避免碰撞。

3. 壽命延長(zhǎng)：

• 砂紙可翻面使用，拋光布分區(qū)域旋轉(zhuǎn)使用。